人类会被困在1nm吗？深度解析光刻机与芯片制程的未来【深度】

本期硅谷 101 节目由陈茜主持，深入探讨了光刻机的技术现状与未来发展。节目从光刻机的基本原理讲起，详细解释了 EUV 光刻机的工作方式，以及 ASML 公司在提升光刻精度方面所做的努力，包括 High-NA EUV 和 Hyper-NA EUV 的研发。节目还讨论了计算光刻技术，特别是逆向光刻技术（ILT）如何通过 AI 算法提升芯片设计和光刻的精度。此外，节目还涉及了纳米压印技术作为光刻机替代方案的可行性，以及政治经济因素对 ASML 公司的影响。嘉宾们分享了他们对光刻技术未来发展方向的看法，以及芯片制造领域的一些行业内幕，例如芯片命名规则的实际意义。